防反射 （AR） 涂層 LD 產(chǎn)品采用 Ushio 設(shè)計(jì)和優(yōu)良的薄膜沉積技術(shù)，正面設(shè)計(jì)反射率為<0.1%。

與傳統(tǒng)的鍍膜法布里-珀羅 LD 相比，寬增益帶寬使其成為外腔波長(zhǎng)可調(diào)諧激光器的理想選擇，因?yàn)樗鼈兛梢耘c衍射光柵和干涉濾光片結(jié)合使用，以產(chǎn)生具有窄線(xiàn)寬的特定波長(zhǎng)模式的激光振蕩。它可以廣泛用于量子技術(shù)（光晶格時(shí)鐘、激光冷卻）和光譜學(xué)的應(yīng)用。

我們?yōu)榱孔蛹夹g(shù)提供三種波長(zhǎng)，即 671nm、689nm 和 698nm。Ushio 的芯片具有高可靠性的光輸出功率 200mW 和 75°C 的高溫作，10nm 或更高的增益峰值可以通過(guò)溫度控制自由調(diào)節(jié)。

核心技術(shù)：

激光二極管技術(shù)：在激光二極管的研發(fā)和制造方面有深入的技術(shù)積累，能夠精確控制激光二極管的結(jié)構(gòu)和性能參數(shù)，實(shí)現(xiàn)高效的激光產(chǎn)生和輸出。例如，通過(guò)優(yōu)化芯片設(shè)計(jì)和材料選擇，提高了激光二極管的發(fā)光效率和壽命。

光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)：擁有優(yōu)良的光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)能力，能夠根據(jù)不同的應(yīng)用需求，設(shè)計(jì)出高性能的光束整形、準(zhǔn)直和聚焦系統(tǒng)。如在直接成像應(yīng)用中，通過(guò)精密的光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)，將激光束精確聚焦到微小的區(qū)域，實(shí)現(xiàn)高分辨率的成像。

控制與驅(qū)動(dòng)技術(shù)：開(kāi)發(fā)了優(yōu)良的控制與驅(qū)動(dòng)電路，能夠精確控制激光儀器的輸出功率、脈沖頻率等參數(shù)。并且具備良好的穩(wěn)定性和可靠性，可確保激光儀器在長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行過(guò)程中保持穩(wěn)定的性能。